EKRAN FEP 公司簡介
像增強器研究與開發(fā)
艾克蘭FEP在科學和**領(lǐng)域的主要合作伙伴是SB RAS俄羅斯科學院西伯利亞分院。
目前正在研究與開發(fā)的領(lǐng)域是:
-改進Gen 2+和Gen 3像增強器的生產(chǎn)技術(shù)，包括無離子阻擋膜技術(shù)
-新型光電發(fā)射涂層
與SB RAS的布德克爾核物理研究所合作:
-用于核物理研究的現(xiàn)代化MCP-PMT探測器
-開發(fā)用于高分辨率的方形MCP-PMT探測器
與SB RAS的羅曼諾夫半導體物理研究所合作:
-開發(fā)在紫外線、短波、中波和長波紅外范圍內(nèi)工作的像增強器
-開發(fā)圖像型3D自旋轉(zhuǎn)檢測器
像增強器 教育與培訓
艾克蘭FEP積極培養(yǎng)專業(yè)人才，并與***教育機構(gòu)合作
|
像增強器 技術(shù)指標 |
EPM222G-11-26 |
EPM222G-10-11 |
EPM222G-13-35 |
|
|
光學類型 |
倒像 |
玻璃 |
正像 |
|
|
尺寸, mm |
? 36,75 × 31 |
? 43 × 22 |
? 43 × 31 |
|
|
陰極有效直徑, mm |
17.5 |
|||
|
光陰極類型 |
砷化鎵 |
|||
|
輸入/輸出窗口材料 |
5.6 毫米玻璃/ 光纖倒像,球面 |
玻璃厚度 5,6 mm/ 玻璃厚度 1,2 mm |
5.6 毫米玻璃/ 光纖正像,球面 |
|
|
參數(shù) |
*小值 |
典型值 |
||
|
陰極靈敏度, μA/lm |
1 900 |
2 200 |
||
|
輻射 (850 nm), mA/W |
180 |
235 |
||
|
極限分辨力, lp/mm |
45 |
47 |
||
|
信噪比* |
25 |
30 |
||
|
增益 |
60 000 *根據(jù)用戶需求 |
|||
|
品質(zhì)因數(shù) |
1 125 |
1 410 |
||
|
等效背景照度, μlx, max |
0.25 |
|||
|
輸入電壓, V |
2-3.6 |
|||
|
輸入電流, mA, max |
25 |
|||
可選項:
· P22, P43, P45
· 外部增益控制
· 超高速自動門控
· 600g 高抗震能力
· 超純凈視場
